精密化工洁净室工程

PPT 级杂质控制 · 严苛 AMC 过滤 · 赋能半导体材料纯度

定义超高纯化学品制造环境

定义超高纯化学品制造环境

核心领域: 专为湿电子化学品、光刻胶、CMP 抛光液及 OLED 发光材料等对“金属离子”与“微颗粒”零容忍的高端制程打造。

系统交付: 森培环境提供从“特氟龙(PFA)管路施工、洁净灌装环境”到“超纯水/气系统”集成的全套解决方案。

技术壁垒: 我们深入理解 SEMI 标准,通过构建不锈钢+氟聚合物的双重防护体系,不仅解决腐蚀问题,更从根源上切断金属离子析出,确保产品达到 G4/G5 等级。

【核心场景】

黄光光刻胶区

针对光刻胶等光敏材料,配置专业防紫外线黄光照明(500nm 以下波长切断),防止化学品感光变质。

超纯提纯与合成

采用千级(ISO 6)大环境 + 百级(ISO 5)层流罩模式,配合全氟化(Fluoropolymer)内饰,确保提纯过程零污染。

痕量杂质分析室

为 ICP-MS 等高端质谱仪打造 ISO 5 级超净环境,精准控制温湿度与气流扰动,保障 PPT (万亿分之一) 级检测精度。

无尘灌装系统

自动化洁净灌装产线设计,集成 Class 100 级洗瓶隧道,确保高纯试剂从生产到封装全程不接触外界空气。

攻克微观污染,锁定产品良率

攻克微观污染,锁定产品良率

阻断金属离子迁移: 在关键洁净区,严禁使用普通金属材料。墙板采用抗静电 PVC/PVDF 覆膜,管路选用 PFA/EP 不锈钢,杜绝金属析出。
去除分子级污染 (AMC): 常规过滤器无法过滤气体分子。我们引入化学过滤器 (Chemical Filter),针对性吸附酸性 (MA)、碱性 (MB) 及有机 (VOC) 气体分子。
静电吸附零容忍: 采用离子风棒与全室导静电地坪系统,消除微小颗粒因静电吸附在包装瓶或产品表面的风险。
微振动与气流稳态: 对精密天平与分析仪器台进行独立隔振处理,优化气流组织模拟 (CFD),消除灌装区的气流死角。

【核心技术指标】

(洁净与纯度):

悬浮粒子控制: 关键灌装点严格控制 0.1μm 粒径微尘,符合 ISO 14644 Class 5 (百级) 标准。

AMC 控制指标: 针对 SOx, NOx 及 VOCs 等分子污染物,通过化学过滤将浓度控制在 ppb (十亿分之一) 级别。

(材料与环境):

接触材质标准: 所有与产品接触的表面(墙面/台面)均需通过 耐化学腐蚀 + 低析出 认证,优先选用 PVDF/PFA 材质。

静电防护 (ESD): 体系电阻严格控制在 10⁵ - 10⁸ Ω,并配备人体静电消除器与实时在线监控系统。

【详细参数表】

工艺环节 洁净度等级
(ISO/颗粒管控)
温度/湿度 光照环境 AMC/特殊控制
光刻胶灌装 ISO 5级 (百级) 21 ± 0.5°C
45 ± 3%
黄光 (无UV) 去微气泡/控氮气
痕量分析室 ISO 4/5级 (超净) 20 ± 0.5°C
50 ± 5%
白光 LED 酸碱气体过滤
防微振
高纯合成区 ISO 6级 (千级) 22 ± 2°C
45-60%
白光/黄光混用 防爆Ex/防静电
清洗/包装区 ISO 7级 (万级) 23 ± 2°C
55 ± 10%
普通照明 洗瓶水需UPW

【系统构成】

【FAQ 问答】

以极限纯度,致敬精密制造

在电子级化学品领域,99.9% 与 99.9999% 之间横亘着巨大的技术鸿沟。森培环境深知每一个 PPT 级杂质的危害。我们用半导体级别的工程标准,为您打造高纯、安全、稳定的精密化工生产基地。

call 电话联系

13533189908

微信联系
微信联系
返回顶部