核心领域: 专为湿电子化学品、光刻胶、CMP 抛光液及 OLED 发光材料等对“金属离子”与“微颗粒”零容忍的高端制程打造。
系统交付: 森培环境提供从“特氟龙(PFA)管路施工、洁净灌装环境”到“超纯水/气系统”集成的全套解决方案。
技术壁垒: 我们深入理解 SEMI 标准,通过构建不锈钢+氟聚合物的双重防护体系,不仅解决腐蚀问题,更从根源上切断金属离子析出,确保产品达到 G4/G5 等级。
针对光刻胶等光敏材料,配置专业防紫外线黄光照明(500nm 以下波长切断),防止化学品感光变质。
采用千级(ISO 6)大环境 + 百级(ISO 5)层流罩模式,配合全氟化(Fluoropolymer)内饰,确保提纯过程零污染。
为 ICP-MS 等高端质谱仪打造 ISO 5 级超净环境,精准控制温湿度与气流扰动,保障 PPT (万亿分之一) 级检测精度。
自动化洁净灌装产线设计,集成 Class 100 级洗瓶隧道,确保高纯试剂从生产到封装全程不接触外界空气。
阻断金属离子迁移: 在关键洁净区,严禁使用普通金属材料。墙板采用抗静电 PVC/PVDF 覆膜,管路选用 PFA/EP 不锈钢,杜绝金属析出。
去除分子级污染 (AMC): 常规过滤器无法过滤气体分子。我们引入化学过滤器 (Chemical Filter),针对性吸附酸性 (MA)、碱性 (MB) 及有机 (VOC) 气体分子。
静电吸附零容忍: 采用离子风棒与全室导静电地坪系统,消除微小颗粒因静电吸附在包装瓶或产品表面的风险。
微振动与气流稳态: 对精密天平与分析仪器台进行独立隔振处理,优化气流组织模拟 (CFD),消除灌装区的气流死角。
悬浮粒子控制: 关键灌装点严格控制 0.1μm 粒径微尘,符合 ISO 14644 Class 5 (百级) 标准。
AMC 控制指标: 针对 SOx, NOx 及 VOCs 等分子污染物,通过化学过滤将浓度控制在 ppb (十亿分之一) 级别。
接触材质标准: 所有与产品接触的表面(墙面/台面)均需通过 耐化学腐蚀 + 低析出 认证,优先选用 PVDF/PFA 材质。
静电防护 (ESD): 体系电阻严格控制在 10⁵ - 10⁸ Ω,并配备人体静电消除器与实时在线监控系统。
| 工艺环节 | 洁净度等级 (ISO/颗粒管控) |
温度/湿度 | 光照环境 | AMC/特殊控制 |
|---|---|---|---|---|
| 光刻胶灌装 | ISO 5级 (百级) | 21 ± 0.5°C 45 ± 3% |
黄光 (无UV) | 去微气泡/控氮气 |
| 痕量分析室 | ISO 4/5级 (超净) | 20 ± 0.5°C 50 ± 5% |
白光 LED | 酸碱气体过滤 防微振 |
| 高纯合成区 | ISO 6级 (千级) | 22 ± 2°C 45-60% |
白光/黄光混用 | 防爆Ex/防静电 |
| 清洗/包装区 | ISO 7级 (万级) | 23 ± 2°C 55 ± 10% |
普通照明 | 洗瓶水需UPW |
核心工艺管路采用 PFA (可溶性聚四氟乙烯) 或 EP (电解抛光) 级 316L 不锈钢,配合轨道自动焊技术,确保内壁粗糙度 Ra < 0.2μm,防止杂质挂壁。
集成中央化学品供应系统 (CDS),采用双层套管设计与泄漏侦测技术,实现高纯试剂从储罐到使用点的全封闭、自动化输送。
在 MAU 新风机组中加装化学过滤器模块,通过离子交换纤维或活性炭复合材料,精准吸附空气中的硼、磷、氨等影响半导体良率的分子。
配套 18.2 MΩ·cm 超纯水制备系统,采用 PVDF 管路循环,终端配置 0.05μm 超滤膜,确保清洗用水达到电子级标准。
在半导体制造中,微量的金属离子(如钠、钾、铁)都会导致芯片晶体管失效。因此,精密化工车间的装修必须杜绝任何可能析出金属离子的材料,普通不锈钢甚至都需要替换为特氟龙或覆膜材料。
黄光区是指通过安装黄色滤光灯管,过滤掉 500nm 以下波长的紫外线区域。这对于生产光刻胶、感光油墨或某些OLED材料是必须的,因为这些材料见光(紫外线)即固化或变质。
对于电子级车间,我们执行严格的“洁净施工协议”。管路切割与焊接必须在洁净房预制;进场材料需经过三道擦拭;施工人员需穿戴洁净服。我们确保不仅结果达标,过程也严控污染。
可以。这是一项复杂的系统工程。我们在防爆区采用防爆型 FFU(风机过滤单元)和防爆洁净灯具,并设计全新风直流系统配合热能回收,既满足 Ex 防爆规范,又达到 ISO 5 级洁净度。
以极限纯度,致敬精密制造
在电子级化学品领域,99.9% 与 99.9999% 之间横亘着巨大的技术鸿沟。森培环境深知每一个 PPT 级杂质的危害。我们用半导体级别的工程标准,为您打造高纯、安全、稳定的精密化工生产基地。
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